2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.4 配線技術

[30p-G6-1~6] 13.4 配線技術

2013年3月30日(土) 13:30 〜 15:00 G6 (B5号館 1F-2106)

[30p-G6-2] ▲Formation of Highly Pure Nickel Films by Hot-wire-assisted ALD (1:45 PM ~ 2:00 PM)

Guangjie Yuan,Hideharu Shimizu,Takeshi Momose,Yukihiro Shimogaki (東大院工)

キーワード:deposition、Ni、Hot Wire