[30p-G6-1~6] 13.4 配線技術

[30p-G6-5] 新規コバルトアミジネート原料を用いた低抵抗Co成膜 (2:30 PM ～ 2:45 PM)

^○河野有美子²，町田英明¹，石川真人¹，須藤弘¹，岩井和俊²，廣田良浩² (気相成長¹，東京エレクトロン²)

キーワード：cobalt、interconnect、CVD