09:00 〜 09:15
○山野井俊雄,友松泰則,遠藤尚 (光伸光学工業)
一般セッション(口頭講演)
03.光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
2014年9月20日(土) 09:00 〜 12:00 C8 (C310)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
○山野井俊雄,友松泰則,遠藤尚 (光伸光学工業)
09:15 〜 09:30
都澤雅見1,○川西悟基1,2 (オプトクエスト1,フォトニッククリスタル研2)
09:30 〜 09:45
〇(D)Trivikramarao Gavara1,Yuki Fujimura1,Ryo Yoshizaki1,Nurul Sheedasuhaimi1,Takuya Kawashima1,Takeru Ohashi11,Yusuke Sasaki1,Hiroaki Hamano1,Kazumichi Yoshii2,Satoshi Uetake1 (UNIVERSITY OF ELECTRO-COMMUNICATIONS1,OKAYAMA UNIVERSITY2)
09:45 〜 10:00
○鈴木健一郎1,西内良太1,三尾典克1,2 (東大工1,東大工2)
10:00 〜 10:15
○大石裕,宮崎洸治,斎藤徳人,岡村幸太郎,岩崎雅彦,和田智之 (理研)
10:15 〜 10:30
〇Jian Zheng,Masayuki Katsuragawa (Department of Engineering Science, University of Electro-Communications)
10:30 〜 10:45
○原口英介,鈴木二郎,安藤俊行 (三菱電機)
10:45 〜 11:00
○(D)遠藤護1,2,伊藤功1,2,小林洋平1,2 (東大物性研1,ERATO, JST2)
11:00 〜 11:15
○渡辺洋次郎,高崎拓哉,柳澤隆行 (三菱電機)
11:15 〜 11:30
○仲村悠基1,2,西浦聖太郎3,野田進3,廣瀬和義4,黒坂剛孝4,杉山貴浩4,渡邊明佳4,時田茂樹1,吉田実2,河仲準二1,宮永憲明1,持田哲郎1,石崎賢司3 (阪大レーザー研1,近大2,京大院工3,浜ホト4)
11:30 〜 11:45
Sungin Hwang,時田茂樹,○河仲準二 (阪大レーザー研)
11:45 〜 12:00
○(PC)常包正樹,平等拓範 (分子研)