[18a-A18-1~9] 3.15 シリコンフォトニクス

[18a-A18-4] ECRプラズマCVD法により作製したSiON導波路のN-H基低減

^○岡崎功太^1,2，西英隆^1,2，土澤泰^1,2，山本剛²，山田浩治^1,2 (NTT NPC¹，NTT MI研²)

キーワード：シリコンフォトニクス,SiON導波路,ECRプラズマCVD法