2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[18a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月18日(木) 09:00 〜 12:30 A19 (E311)

12:00 〜 12:15

[18a-A19-12] 直接貼付InP/SiO2接合界面におけるボイド占有率の評価

松本恵一,金谷佳則,岸川純也,下村和彦 (上智大理工)

キーワード:直接貼付法,InP/SiO2,ボイド