[18p-A8-1~20] 6.2 カーボン系薄膜

[18p-A8-14] 負パルスバイアス電圧印加RFPECVD法により合成したa-C:H膜の光学定数の特性評価

^○（D）周小龍，サラユット トゥンミー，小松啓志，戸田育民，大塩茂夫，齋藤秀俊 (長岡技科大)

キーワード：水素化アモルファス炭素膜,光学特性,負パルスバイアス電圧