2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-PA7-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年9月18日(木) 16:00 〜 18:00 PA7 (第1体育館)

ポスター掲示時間16:00~18:00(PA7会場)

16:00 〜 18:00

[18p-PA7-9] ポーラスアルミナを絶縁膜に用いた抵抗変化メモリにおける絶縁膜の低抵抗化が電流-電圧特性に及ぼす影響

谷本優輔1,浜田佳典2,大塚慎太郎2,清水智弘2,新宮原正三2,渡辺忠孝1,高野良紀1,高瀬浩一1 (日大理工1,関大システム理工2)

キーワード:ReRAM,ポーラスアルミナ