2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:30 A19 (E311)

09:00 〜 09:15

[19a-A19-1] 450mmφシリコンエピタキシャル成長速度の数値計算

松井美沙子,羽深等 (横国大院工)

キーワード:化学気相堆積法