[19a-A19-1~13] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-A19-13] 酸化膜被覆型Siナノワイヤのシリサイド化に伴う破裂現象

^○武井康平¹，小杉山洋希¹，橋本修一郎¹，セイ ソン¹，麻田修平¹，徐泰宇¹，若水昂¹，松川貴²，昌原明植²，渡邉孝信¹ (早大理工¹，産総研²)

キーワード：Si,silicide,nanowire