2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

11.超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[19a-A20-1~12] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2014年9月19日(金) 09:00 〜 12:15 A20 (E312)

11:00 〜 11:15

[19a-A20-8] CeO2バッファ層を用いたMOD法による高品質Bi-2212 薄膜の作製

岩本恵祐1,島影尚1,川上彰2,齊藤敦3,武田正典4 (茨城大1,情報通信研究機構2,山形大3,静岡大4)

キーワード:Bi-2212,MOD法