[19a-PB5-1~17] 15.6 IV族系化合物

[19a-PB5-14] 4H-SiC熱酸化膜の膜中親水基発生によるCV特性の変化

^○佐藤旦¹，黒木伸一郎¹，石川誠治²，前田知徳²，瀬崎洋²，吉川公麿¹ (広島大ナノデバイス¹，フェニテックセミコン²)

キーワード：4H-SiC,オゾン