[20a-A20-1~15] 15.8 結晶評価，不純物・結晶欠陥

△ [20a-A20-10] 窒素雰囲気中高温長時間熱処理によりシリコン中に発生する析出物（Ⅲ）

^○村松徹¹，中澤治雄¹，荻野正明¹，寺西秀明¹，高橋良和¹，羽深等² (富士電機¹，横国大²)

キーワード：FZウェハ