[17p-PG2-1~23] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[17p-PG2-17] 単斜晶WO₃薄膜抵抗率の熱処理依存性

^○李蔚¹，佐々木亮人³，大図秀行³，青木克明³，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，若林整²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²，東芝マテリアル³)

キーワード：WO₃,薄膜,抵抗率