[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-5] SiO₂, Si₃N₄, Si中の窒化種（NH_x）の拡散と反応

^○中崎靖¹，平野泉¹，宮田正靖¹，加藤弘一¹，三谷祐一郎¹，山下寛樹²，赤堀浩史² (東芝研開セ¹，東芝S&S社²)

キーワード：シリコン窒化膜,シリコン酸化膜,窒化種