[18a-D8-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[18a-D8-9] シリコン窒化膜の紫外光誘起電流に対する金属電極の仕事関数の影響

^○（M1）鈴木亜嵐，小林清輝 (東海大院工)

キーワード：シリコン窒化膜,不揮発性メモリ,仕事関数