2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

07.ビーム応用 » 7.4 ナノインプリント

[18p-F3-1~19] 7.4 ナノインプリント

2014年3月18日(火) 14:00 〜 19:00 F3 (F301)

16:15 〜 16:30

[18p-F3-10] ポーラスアルミナを用いた光インプリントによる高アスペクト比構造の形成

柳下崇,鈴木祥平,西尾和之,益田秀樹 (首都大都市環境)

キーワード:陽極酸化ポーラスアルミナ