2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13．半導体A（シリコン） » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)

09:30 〜 09:45

[19a-E14-3] 青色半導体レーザ照射中Si膜の温度分布解析

○岡田竜弥，小田貴之，上原実結，野口隆 (琉大工)

キーワード：青色半導体レーザ