2014年第61回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[19a-E14-1~10] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2014年3月19日(水) 09:00 〜 11:45 E14 (E302)

09:30 〜 09:45

[19a-E14-3] 青色半導体レーザ照射中Si膜の温度分布解析

岡田竜弥,小田貴之,上原実結,野口隆 (琉大工)

キーワード:青色半導体レーザ