[19a-PA3-1~2] 8.1 プラズマ生成・制御

[19a-PA3-2] 高圧かつ狭ギャップマイクロ波水素プラズマにおける解離度の評価

^○山田高寛^1,3，足立昴拓²，山田浩輔¹，大参宏昌^1,3，垣内弘章^1,3，安武潔^1,3 (阪大院工¹，阪大工²，JST CREST³)

キーワード：Silicon,Silane,Etching