[19p-PG2-1~12] 13.2 絶縁膜技術

[19p-PG2-1] 酸素プラズマ処理によるシリコン表面パッシベーション

^○（M2）野手智仁，吉冨真也，古川潤，阿部博史，蓮見真彦，鮫島俊之 (東京農工大工)

キーワード：パッシベーション