[20a-F10-1~13] 13.5 Si-English Session

▼ [20a-F10-9] Self-accelerating oxidation at oxide/Si(111) interfaces studied by real-time photoelectron spectroscopy

^○（D）唐佳芸¹，西本究¹，小川修一¹，吉越章隆²，石塚眞治³，渡辺大輝¹，寺岡有殿²，高桑雄二¹ (東北大多元研¹，原子力機構²，長岡技科大³)

キーワード：界面酸化,リアルタイム光電子分光法,シリコン酸化