[13p-1F-1~2] 8.8 プラズマエレクトロニクス分科内招待講演

2015年9月13日(日) 13:00 〜 14:30 1F (レセプションホール1)

座長:杤久保文嘉(首都大)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:00 〜 13:45

▲ [13p-1F-1] [Invited lecture of overseas researcher] Evolution of Electron Density and Temperature in the Afterglow of Low Pressure Argon Discharges

Fei-Xiang Liu¹, Zhi-Wen Cheng¹, 〇Yi-Kang Pu¹ (1.Tsinghua Univ.)

13:45 〜 14:30

▲ [13p-1F-2] [Invited lecture of overseas researcher] Integrated Approaches for Surface Chemistry Control in Plasma Processing

〇Peter L. G. Ventzek¹, H. Ueda², Y. Kobayashi², T. Iwao², K. Ishibashi², A. Ranjan³, M. Wang³, A. Suzuki², H. Higuchi², B. Lane¹, R. Upadhyay⁴, G.S. Hwang⁵, L. Raja⁵, A. Koshiishi⁶ (1.Tokyo Electron America Inc., 2.Tokyo Electron Ltd., 3.Tokyo Electron Tech. Center America, 4.Esgee Tech., 5.Univ. of Texas at Austin, 6.Tokyo Electron Miyagi Ltd.)

セッション情報

[13p-1F-1~2] 8.8 プラズマエレクトロニクス分科内招待講演

▲ [13p-1F-1] [Invited lecture of overseas researcher] Evolution of Electron Density and Temperature in the Afterglow of Low Pressure Argon Discharges

▲ [13p-1F-2] [Invited lecture of overseas researcher] Integrated Approaches for Surface Chemistry Control in Plasma Processing

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