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[13p-2Q-1~27] 6.4 薄膜新材料

2015年9月13日(日) 13:15 〜 20:30 2Q (231-1)

座長:西川博昭(近畿大),田中勝久(京大),名村今日子(京大),篠田健太郎(産総研)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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13:15 〜 13:30

[13p-2Q-1] 異なる有機分子膜にAg薄膜の特性変化の抑制

〇佐々木達也¹、川村みどり¹、工藤千佳¹、阿部良夫¹、木場隆之¹、金敬鎬¹ (1.北見工大)

13:30 〜 13:45

[13p-2Q-2] 水素注入によるグラフェン/絶縁化グラフェン構造の検討

〇西口博樹¹、伊崎貴生¹、正木良武¹、松川誠也¹、久保田弘¹、吉岡昌雄² (1.熊大自然科学、2.熊大工)

13:45 〜 14:00

[13p-2Q-3] 電子線描画装置を用いたパターニンググラフェンに関する研究

〇(M2)伊崎貴生¹、久保田弘¹、松川誠也¹、西口博樹¹、正木良武¹、吉岡昌雄² (1.熊大院自然科学、2.熊大工)

14:00 〜 14:15

[13p-2Q-4] 窒化チタン薄膜の微細加工によるプラズモニックナノドットアレイの作製

〇鎌倉涼介¹、村井俊介¹、大道陽平¹、藤田晃司¹、田中勝久¹ (1.京都大工)

14:15 〜 14:30

[13p-2Q-5] 熱プラズモニック・マランゴニ効果を用いた脈動流の生成

〇(M1)薗利希¹、名村今日子¹、鈴木基史¹ (1.京大工)

14:30 〜 14:45

[13p-2Q-6] 銀微粒子の触媒作用を用いた二硫化モリブデンの原子層加工

〇(M1)黒岩大¹、荻野俊郎^1,2 (1.横浜国大工院、2.CREST/JST)

休憩 (14:45 〜 15:00)

15:00 〜 15:15

[13p-2Q-7] コプラナー型放電による非平衡二次元プラズマを用いた酸化スズ薄膜の形成

堀水懸登¹、〇増田優貴¹、金指翔大¹、奥谷昌之^1,2 (1.静岡大院工、2.静岡大グリーン研)

15:15 〜 15:30

[13p-2Q-8] 非平衡二次元プラズマを用いたTiO₂膜の作製における酸素濃度の影響

〇増田優貴¹、丹祐人¹、金指翔大¹、堀水懸登¹、奥谷昌之^1,2 (1.静岡大院工、2.静岡大グリーン研)

15:30 〜 15:45

[13p-2Q-9] パルスレーザ堆積法における雰囲気ガス圧がハイドロキシアパタイト薄膜の化学組成に及ぼす影響

〇長谷川司¹、橋本典也²、西川博昭³ (1.近大院生物理工、2.大阪歯科大、3.近大生物理工)

15:45 〜 16:00

[13p-2Q-10] トポタクティック合成法によるカチオン規則配列した蛍石構造Ba_0.5Bi_0.5F_2.5薄膜の作製

〇河原佳祐¹、近松彰^1,2、片山司¹、小野塚智也¹、長谷川哲也^1,2,3 (1.東大院理、2.JST-CREST、3.KAST)

16:00 〜 16:15

[13p-2Q-11] Pulsed laser deposition法を用いた平坦なLiHエピタキシャル薄膜成長

〇大口裕之^1,2、礒部繁人^3,4、白木将⁵、桑野博喜¹、折茂慎一^5,6、一杉太郎⁵ (1.東北大院工、2.東北大μSIC、3.北海道大創成研究機構、4.北海道大院工、5.東北大AIMR、6.東北大金研)

休憩 (16:15 〜 16:30)

16:30 〜 16:45

[13p-2Q-12] HfO₂成膜におけるPLDレーザー強度がSi基板の表面酸化に与える影響

〇(M1)上岡聡史¹、三宅省三¹、吉田晴彦¹、新船幸二¹、佐藤真一¹、堀田育志¹ (1.兵庫県立大学)

16:45 〜 17:00

[13p-2Q-13] PLD法によりSrSiO₃多結晶体ターゲットから作製したSr-Silicate薄膜の化学組成と化学結合状態

〇(M1)馬野光博¹、谷脇将太¹、今西啓司¹、吉田晴彦¹、新船幸二¹、佐藤真一¹、堀田育志¹ (1.兵庫県立大学)

17:00 〜 17:15

[13p-2Q-14] 反応性固相エピタキシャル成長法によるNa_xMnO₂薄膜の作製

〇片山翔太¹、片瀬貴義¹、太田裕道¹ (1.北大電子研)

17:15 〜 17:30

[13p-2Q-15] Mg₂Sn薄膜におけるAg添加プロセスとその効果

〇横山達己¹、西谷幹彦^1,2、森田幸弘^1,2、倉敷哲生¹ (1.大阪大学、2.パナソニック株式会社)

17:30 〜 17:45

[13p-2Q-16] Li₂CO₃-CoO 焼結反応を用いた LiCoO₂ 薄膜の PLD 合成

〇丸山伸伍¹、久保川治²、藤本憲次郎³、松本祐司^1,2 (1.東北大院工、2.東工大応セラ研、3.東京理科大理工)

17:45 〜 18:00

[13p-2Q-17] 異種材料界面におけるマイクロ波吸収を用いた酸化物薄膜形成プロセス

〇佐藤友香¹、米谷真人¹、筑紫洋平¹、椿俊太郎¹、鈴木榮一¹、和田雄二¹ (1.東工大理工)

18:00 〜 18:15

[13p-2Q-18] PLD法によりSr₂SiO₄ターゲットから作製したSr₂SiO₄薄膜の
膜中固定電荷のアニール温度依存性

〇(M2)今西啓司¹、谷脇将太¹、馬野光博¹、吉田晴彦¹、新船幸二¹、佐藤真一¹、堀田育志¹ (1.兵庫県立大)

18:15 〜 18:30

[13p-2Q-19] 酸化タングステン薄膜を用いた新しいガスクロミック調光シート

〇吉村和記¹、山田保誠¹ (1.産総研)

18:30 〜 18:45

[13p-2Q-20] ニオブとチタンの複合酸化物光学薄膜における光学特性の評価

〇宮川とも子¹、室谷裕志¹ (1.東海大工)

18:45 〜 19:00

[13p-2Q-21] 近赤外波長フィルタ用ITiO透明ヒータ膜の特性評価

〇依田秀彦¹、白石和男¹ (1.宇都宮大院工)

19:00 〜 19:15

[13p-2Q-22] 複合成膜による異なる成型法のアクリル基板上へ形成した光学薄膜の密着性の研究

〇田島直弥¹、室谷裕志¹、松本繁治²、本多博光² (1.東海大院工、2.(株)シンクロン)

19:15 〜 19:30

[13p-2Q-23] TiO₂光学薄膜の結晶構造と機械的特性

〇椎名赳智¹、羽尾衛¹、室谷裕志¹、勝俣力² (1.東海大学工、2.(株)パルメソ)

19:30 〜 19:45

[13p-2Q-24] CeO₂光学薄膜の成膜手法の検討

〇成田彩希¹、室谷裕志¹、天野辰次²、岡茂樹² (1.東海大工、2.株式会社ニデック)

19:45 〜 20:00

[13p-2Q-25] 液体窒素温度でスパッタ成膜した酸化ニッケル薄膜のエレクトロクロミック特性

〇山内駿¹、阿部良夫¹、川村みどり¹、金敬鎬¹、木場隆之¹ (1.北見工大)

20:00 〜 20:15

[13p-2Q-26] 鉄、コバルト及びニッケル酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性の比較

〇若松央暉¹、阿部良夫¹、川村みどり¹、金敬鎬¹、木場隆之¹ (1.北見工大工)

20:15 〜 20:30

[13p-2Q-27] 金属-EDTA錯体由来のY₂O₃膜の熱衝撃耐性

〇(B)淡エンキン¹、中村淳^2,1、小松啓志¹、齋藤秀俊¹ (1.長岡技科大、2.中部キレスト)

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