[16a-4E-9~12] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 11:15 〜 12:15 4E (437)

座長:山本治朗(日立)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

+全てマイスケジュールに登録

11:15 〜 11:30

△ [16a-4E-9] 12.5 nm HPレジスト評価用EUV二光束干渉露光系の透過型回折格子の製作

〇(M1)福田裕貴¹、福井翼¹、谷野寛仁¹、原田哲男¹、渡邊健夫¹ (1.兵県大)

11:30 〜 11:45

[16a-4E-10] NEB-22を用いた電子ビームリソグラフィーによる50nmラインアンドスペースパターンの作製

〇岡田真¹、松井真二¹ (1.兵県大高度研)

11:45 〜 12:00

[16a-4E-11] 新規アクリル系ポリマー型電子線レジストの露光特性

〇星野亮一¹、河田敦¹、國武雅司²、落合俊介³、髙山智寛³、岸村由紀子³、浅田裕法³ (1.グルーオンラボ、2.熊本大学、3.山口大学)

12:00 〜 12:15

[16a-4E-12] 両親媒性液晶型ジブロック共重合体の急速熱的誘導自己組織化による準長距離配向秩序を持った2次元垂直シリンダ列の形成

〇山口徹¹、小村元憲³、長井圭治²、藤原聡¹、山口浩司¹、彌田智一² (1.NTT物性基礎研、2.東工大資源研、3.沼津高専)

認証

パスワード認証
PDFの閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

事前参加予約が完了した方にパスワードを配信しております。
当日参加受付をする方はお渡しするガイドブックに記載のパスワードをご使用ください。
応用物理学会会員の皆様には2016年3月にパスワードを配信します。