2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13a-4C-1~12] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 12:15 4C (432)

座長:渡邉 孝信(早大),右田 真司(産総研)

10:00 〜 10:15

[13a-4C-5] 酸素プラズマを用いた ALDアルミナ膜の基板温度依存性

〇(M1)和泉 慶彦1、福井 僚1、中村 嘉基1、若林 整1、筒井 一生1、岩井 洋1、角嶋 邦之1 (1.東工大総理工)

キーワード：ダイポール、アルミナ