3:15 PM - 3:45 PM
[13p-1B-4] Study of cleaning technology for SiC substrate
Keywords:semiconductor,SiC,cleaning
SiC基板の洗浄には、基本的にはSiプロセスの応用が適していると考えられる。ただし、SiC基板表面においてはSi基板とは異なる特異な挙動が確認されており、これらのうち洗浄工程において考慮するべき特徴について報告する。
Symposium
Symposium » Progress of semiconductor wet processing - from silicon to compound -
Sun. Sep 13, 2015 1:15 PM - 5:45 PM 1B (133+134)
座長:真田 俊之(静岡大)
3:15 PM - 3:45 PM
Keywords:semiconductor,SiC,cleaning