14:30 〜 14:45
△ [13p-2F-4] F2レーザーを用いたパルスレーザー堆積法により形成されたナノポーラスSiO2膜の構造解析
キーワード：ポーラス膜、低誘電率、F2レーザー
講演情報
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
[13p-2F-1~16] 3.7 レーザープロセシング
2015年9月13日(日) 13:45 〜 18:15 2F (221-2)
座長:渡邉 歴(立命大),中村 大輔(九大)
一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2015年9月13日(日) 13:45 〜 18:15 2F (221-2)
座長:渡邉 歴(立命大),中村 大輔(九大)
14:30 〜 14:45
キーワード：ポーラス膜、低誘電率、F2レーザー