2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-2H-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月13日(日) 13:45 〜 19:15 2H (222)

座長:矢嶋 赳彬(東大),藤原 宏平(東北大)

13:45 〜 14:00

△ [13p-2H-1] 電気化学堆積法による Cu2O/InP ヘテロ構造の形成と特性評価

〇近江 沙也夏1、熊崎 祐介1、谷田部 然治1、佐藤 威友1 (1.北大量集セ)

キーワード：電気化学堆積法、酸化(Ⅱ)銅、ヘテロ構造