2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.1 成長技術

[14a-2T-1~12] 17.1 成長技術

2015年9月14日(月) 09:00 〜 12:15 2T (232)

座長:佐藤 信太郎(富士通研)

09:15 〜 09:30

[14a-2T-2] CH4プラズマ処理による酸化グラフェンからのグラフェン生成

〇小幡 誠司1、佐藤 稔1、赤田 圭史1、斉木 幸一朗1 (1.東大新領域)

キーワード:グラフェン、プラズマ

メタンプラズマ処理によって酸化グラフェンからグラフェンを絶縁基板上に直接生成する手法の開発を行ってきたが、今回は生成条件の最適化を目指し、各種パラメータの影響の解明を試みたので報告する。