2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[14a-4C-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月14日(月) 09:00 〜 11:45 4C (432)

座長:渡部 平司(阪大),井上 真雄(ルネサス)

10:45 〜 11:00

[14a-4C-7] 結晶性La2O3/Ge(111)高品質界面のXPS分析

〇金島 岳1、野平 博司2、銭高 真人1、小林 太朗1、山城 陸1、山田 晋也1、浜屋 宏平1 (1.阪大基礎工、2.東京都市大工)

キーワード：XPS、La2O3、エピタキシャル