09:30 〜 11:30
[14a-PB7-13] テクスチャ化Si基板上へのスピンコーティング法による反射防止膜の形成と光学的特性
キーワード:シリコン太陽電池、テクスチャ、酸化チタン
テクスチャ化Si基板上にスピンコーティング法で成膜した場合、膜は凹み部分が厚く、凸部分が薄くなる膜厚の不均一性により反射防止効果は限定的である。本研究では複数回スピンコートにおいて、薄めたTiO2原料溶液を用いて膜厚均一性を改善し、テクスチャ化Si基板上における反射防止膜の反射率低減を検討した。
一般セッション(ポスター講演)
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2015年9月14日(月) 09:30 〜 11:30 PB7 (白鳥ホール)
09:30 〜 11:30
キーワード:シリコン太陽電池、テクスチャ、酸化チタン