2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用

[14p-4D-1~13] 11.3 臨界電流,超伝導パワー応用

2015年9月14日(月) 13:00 〜 16:30 4D (436)

座長:木須 隆暢(九大),藤吉 孝則(熊本大)

13:30 〜 13:45

[14p-4D-3] LTG法により成膜したBHO添加SmBCO薄膜のseed層が磁場中超伝導特性に与える影響

〇渡邉 優太郎1、一野 祐亮1、吉田 隆1 (1.名大工)

キーワード:超伝導薄膜、ナノロッド

S. Miuraらは、LaAlO3(LAO)基板上に低温成膜(LTG)法を用いて成膜したBHO添加SmBCO薄膜が5 T付近まで平坦なJcを示すことを報告している。しかし、1 T以下の低磁場領域ではPLD法で作製した薄膜では見られないような急激なJcの低下が確認された。そこで本研究ではLTG法を用いる際に導入したSmBCO seed層が低磁場でのJc低下の原因であると考え、LSAT基板上にseed層の厚さを変えたBHO添加SmBCO薄膜を作製し磁場中超伝導特性の評価を行った。