[14p-PA10-1~16] 6.4 薄膜新材料

△ [14p-PA10-3] エキシマレーザー照射による固相結晶化Ga₂O₃薄膜における構造及び光学特性への照射条件の影響

〇内田 啓貴¹、塩尻 大士¹、福田 大二¹、土嶺 信男²、小山 浩司³、金子 智^4,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大、2.豊島製作所、3.並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)

キーワード：酸化ガリウム、レーザーアニーリング、ワイドギャップ半導体