2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[14p-PB12-1~23] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月14日(月) 18:30 〜 20:30 PB12 (白鳥ホール)

18:30 〜 20:30

[14p-PB12-11] 高流速MOCVDを用いたn型AlGaN(Al>0.5)の高速成長

〇池永 和正1、三嶋 晃1、田渕 俊也1、松本 功1 (1.大陽日酸)

キーワード:有機金属気相成長法、n型AlGaN、高速成長

本発表では比較的高いV/IIIを維持しつつ、高速で成長したSiドープAlGaN(Al>0.5)のカーボン濃度と電気特性の結果を報告する。