[15a-1B-1~10] 21.1 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

△ [15a-1B-5] KrFエキシマレーザーアニールによるβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の室温作製と光学特性評価

〇(DC)塩尻 大士¹、福田 大二¹、内田 啓貴¹、髙野 詩織¹、土嶺 信男²、小山 浩司³、金子 智^4,1、松田 晃史¹、吉本 護¹ (1.東工大、2.(株)豊島製作所、3.(株)並木精密宝石、4.神奈川県産技セ)

キーワード：酸化ガリウム、エキシマレーザーアニーリング、固相結晶成長