[15a-4F-1~9] 6.2 カーボン系薄膜

△ [15a-4F-7] 陽電子消滅法を用いた水素化DLC膜の自由体積の軟X線照射量依存性

〇田中 祥太郎¹、今井 亮¹、堀 史説²、神田 一浩¹ (1.兵庫県大高度研、2.大阪府立大)

キーワード：水素化DLC膜、陽電子消滅法、軟X線

陽電子消滅法は物質に照射した陽電子が物質中の電子との対消滅によって放出する2本のγ線を観測することにより、物質の空孔とその周辺環境の情報を得る手法である。DLC膜はアモルファス材料であり、内部に持つ自由体積はその物性と密接にかかわっている要素である。したがって本研究では軟X線照射により物性の変化する水素化DLC膜に対し陽電子消滅法を用いることで微視的な自由体積の変化を明らかにし、それら構造変化のメカニズムについて議論する。