2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

21 合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[15p-1B-1~18] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1B (133+134)

座長:浦岡 行治(奈良先端大),神谷 利夫(東工大)

15:00 〜 15:15

[15p-1B-8] 不純物水素がアモルファスIn-Ga-Zn-Oの欠陥に及ぼす影響

Tang Haochun1、〇神谷 利夫1,2、石川 恭平1、井手 啓介1、平松 秀典1、上田 茂典3、大橋 直樹2,3、雲見 日出也2、細野 秀雄1,2 (1.東工大応セラ研、2.東工大元素センター、3.物材機構)

キーワード:アモルファス酸化物半導体、価電子帯直上欠陥、不純物水素

不純物水素がアモルファスIn-Ga-Zn-Oのサブギャップ欠陥に及ぼす影響をHAXPESなどを用いて調べた。その結果、不純物水素が製膜室中に存在することで、膜成長中に強い還元反応が起こり、金属Inが析出することが認められた。また、不純物水素を減らすことで、最適酸素分圧が劇的に低下することも確認できた。