2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[15p-1C-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1C (135)

座長:齋藤 真澄(東芝),入沢 寿史(産総研)

16:15 〜 16:30

[15p-1C-12] Poly-Ge TFTへの原子状水素アニールの効果

〇部家 彰1、平野 翔大1、松尾 直人1 (1.兵庫県立大工)

キーワード:多結晶ゲルマニウム、薄膜トランジスタ、原子状水素アニール

多結晶Ge(poly-Ge)膜を活性層、Si熱酸化膜をゲート絶縁膜としてpoly-Ge TFTを作製し、原子状水素アニール(AHA)による特性改善について検討した。AHA処理時間が増加するとVg依存性がわずかに見られるようになり、Ge膜およびGe/SiO2界面付近のキャリア生成欠陥がAHAにより水素終端され、Vg印加による空乏化がわずかながら支配的になったと考えられる。