2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[15p-1C-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1C (135)

座長:齋藤 真澄(東芝),入沢 寿史(産総研)

17:15 〜 17:30

[15p-1C-16] VO2チャネルトランジスタのチャネル膜厚に依存したゲート変調

〇矢嶋 赳彬1,2、西村 知紀1,2、鳥海 明1,2 (1.東京大学、2.JST-CREST)

キーワード:モットトランジスタ、酸化バナジウム

近年我々は高誘電率のTiO2をゲート絶縁体に用いることで、初めて固体ゲート絶縁膜によってVO2チャネルトランジスタを動作させることに成功した。本研究ではこの固体ゲートのVO2チャネルトランジスタにおいて、ゲート変調量がチャネル膜厚に強く依存するという金属絶縁体転移デバイスならではの結果を得たので報告する。