[16a-2Q-10~13] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[16a-2Q-13] スパッタリング法によるEr₂O₃/TiO₂誘電体多層膜の作製

〇大島 多美子¹、山田 創介¹、川崎 仁晴¹、柳生 義人¹、猪原 武士¹、須田 義昭¹ (1.佐世保高専)

キーワード：スパッタリング、誘電体多層膜

特定波長の光を透過するバンドパスフィルター(BPF)機能を有する誘電体BPF薄膜の作製を目的とし，高屈折率材料に酸化チタン(TiO₂)，低屈折率材料に酸化エルビウム(Er₂O₃)を用いて[Er₂O₃/TiO₂]⁶/[Er₂O₃]²/[TiO₂/Er₂O₃]⁶構造を持つ誘電体多層膜をスパッタリング法により作製した．本研究では，中心透過波長による膜厚設計，薄膜作製条件の最適化，および光学的特性について検討を行った．