2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[16a-2Q-1~9] 8.5 プラズマナノテクノロジー

2015年9月16日(水) 09:00 〜 11:15 2Q (231-1)

座長:野崎 智洋(東工大)

10:45 〜 11:00

[16a-2Q-8] Ar/NO/F2ガスを用いたカーボンナノウォールの化学終端処理が表面微細構造および電気的特性に及ぼす効果

〇(P)趙 亨峻1、田嶋 聡美1、竹田 圭吾1、近藤 博基1、石川 健治1、関根 誠1、平松 美根男2、堀 勝1 (1.名大院工、2.名城大理工)

キーワード:カーボンナノウォール、化学的終端、電気的特性

カーボンナノウォール(CNWs)は、基板上に垂直成長した多層グラフェンシートから成るカーボンナノ材料の一種である。今回、CH4/H2プラズマを用いて成長したCNWsに対して、Ar/NO/F2ガスを用いたグラフェンのエッジ化学修飾を施し、表面構造と電気的特性の変化を明らかにしたので報告する。本研究では、ラジカル注入型プラズマ化学気相堆積(RI-PECVD)装置を用いて、SiO2基板上にCNWsを成長した。成長したCNWsのエッジ部分を処理するために室温及び300oCにおいて、Ar/NO/F2ガス処理を施した。その後、処理したCNWsの結晶構造および化学終端構造の変化が、Hall測定によって計測した電気的特性にどのような影響を及ぼしているかを調べた。