2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-2R-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年9月16日(水) 09:00 〜 12:00 2R (231-2)

座長:末益 崇(筑波大)

11:00 〜 11:15

[16a-2R-8] Bドープβ-FeSi2多結晶薄膜における不純物の活性化過程

〇服部 哲1、三村 祐介1、東 貴彦1、山口 陽己1、寺井 慶和1,2 (1.鹿児島大理工、2.九工大情報工)

キーワード：シリサイド