[16a-4E-1~8] 7.1 X線技術

[16a-4E-6] レーザー励起プラズマEUV光源ターゲット分散過程のモデル構築

〇佐々木 明¹、砂原 淳²、西原 功修³ (1.原子力機構、2.レーザー総研、3.阪大レーザー研)

キーワード：EUV光源、レーザープラズマ、シミュレーション

次世代半導体リソグラフィに用いられるEUV光源のプラズマ流体力学モデルの構築を行っている。流体とともに動くラグランジメッシュを用い、それを任意に分割、融合することにより、気液の分布を扱い、プリパルスレーザー照射で生成した微粒子の挙動を解析することを考え、気液相のSnの状態方程式、相転移の条件について、理論的な解析と計算手法の研究を行っている。