[16a-PA2-1~60] 17 ナノカーボン（ポスター）

[16a-PA2-6] キュプロニッケル基板を用いた熱ＣＶＤ法によるグラフェンの合成

〇(M2)岩間 一樹¹、岸 直希¹、曽我 哲夫¹ (1.名古屋工業大工)

キーワード：グラフェン、熱ＣＶＤ法

グラフェンとは、原子1層厚さのグラファイトのことであり次世代のエレクトロニクス技術への応用が期待される新材料である。熱ＣＶＤ法ではグラフェンの層数や品質はその基板金属に左右され、現在銅かニッケルを用いるのが主流であるが、その合金キュプロニッケルを基板に用いた研究はあまりされていない。そこで本研究では、銅とニッケルの合金であるキュプロニッケルを用い、新しい基板でのグラフェン合成法確立を目指す。