[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-1] 次世代マルチパターニング露光に対応した波長計測高精度化技術

〇古里 博志¹、守屋 正人¹、熊崎 貴仁¹、對馬 弘朗¹、太田 毅¹、黒須 昭彦¹、田中 智史¹、松永 隆¹、溝口 計¹ (1.ギガフォトン)

キーワード：リソグラフィ、ArFレーザ、波長計測

半導体リソグラフィにおいてはマルチパターニングにおける微細化のために、光源は波長を高精度で安定して計測し、制御しなければならない。また、露光機は気圧による屈折率の変動の影響を波長で補正するので、光源には波長可変機能が求められる。こうした要求を満たすために開発した高精度で広範囲の計測が可能な波長計測器について、絶対精度と再現精度について報告を行う。