[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-11] 連続ＵＶナノインプリントにおける離型層の耐久性の検討

〇伊吉 就三¹、岡田 真¹、春山 雄一¹、松井 真二¹ (1.兵庫県立大学　高度研)

キーワード：UV ナノインプリント、離型層の耐久性、添加剤

連続UVナノインプリント試験後のモールド面の水滴接触角の変化追うことによって、モールドに施された離型層（Antisticking layer=ASL)の耐久性を検討した結果、レジストのシリコン基板への密着性を改善するために添加されるレベリング剤と添加剤の併用により、ASLの耐久性が大幅に改善された。