2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[16p-4E-1~11] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2015年9月16日(水) 13:45 〜 16:45 4E (437)

座長:山口 徹(NTT),岡田 真(兵庫県立大),柳下 崇(首都大)

14:45 〜 15:00

[16p-4E-5] 酸素を微量添加した水素ラジカルを用いたレジストの除去

〇山本 雅史1、梅本 宏信2、大平 圭介3、西山 聖4、堀邊 英夫4 (1.香川高専、2.静大、3.北陸先端大、4.大阪市大)

キーワード:レジスト除去、環境に優しい、水素ラジカル

一般的なレジスト除去方式では、環境負荷やプラズマ中の荷電粒子などが課題である。そこで、我々はこれまで水素ラジカルを用いたレジスト除去方式を検討してきた。この方式では、レジスト除去速度が遅いことが課題の1つとなっている。その打開策として、今回、水素ラジカルに対して敢えて酸素を添加する新たな試みを実施した。その結果、酸素を適量添加することでレジスト除去速度を向上できることを明らかにした。