2015年第62回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[11a-D10-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年3月11日(水) 09:00 〜 11:45 D10 (16-305)

09:15 〜 09:30

[11a-D10-2] RFリアクティブスパッタ堆積したLi添加NiO薄膜の正孔濃度制御

〇中井 洋志1、前田 亮1、小笠原 愛理1、森山 和眞1、川出 大佑1、秩父 重英2、杉山 睦1 (1.東京理科大学 理工学部/総合研究機構, 2.東北大学 多元物質科学研究所)

キーワード:酸化ニッケル、スパッタ、p型透明酸化物半導体