PDF ダウンロード スケジュール 9 いいね! 0 09:30 〜 11:30 △ [11a-P6-53] 水素インターカレーションによるグラフェンナノリボンFETへのSiO2基板の影響の除去 〇(D)岩崎 拓哉1、スン ジアン1、兼竹 望1、筑葉 拓生1、赤堀 誠志1、ムルガナタン マノハラン1、水田 博1, 2 (1.北陸先端大, 2.サザンプトン大) キーワード:グラフェン、水素インターカレーション、アニール