[11p-A23-1~13] 13.5 デバイス／集積化技術

[11p-A23-3] パターン依存酸化法を応用した直列三重結合シリコン量子ドットの作製

〇内田 貴史¹、吉岡 勇¹、佐藤 光¹、福地 厚¹、有田 正志¹、藤原 聡²、高橋 庸夫¹ (1.北大院情報, 2.NTT物性基礎研)

キーワード：シリコン、量子ドット