[11p-A26-1~16] 7.1 X線技術

[11p-A26-13] 自己組織化ラグランジメッシュを用いた流体コードによるEUV光源ターゲット分散過程のモデル化

〇佐々木 明¹、砂原 淳²、西原 功修³ (1.原子力機構, 2.レーザー総研, 3.阪大レーザー研)

キーワード：EUV光源、レーザープラズマ、シミュレーション